[发明专利]一种印制电路埋嵌电感的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910337319.6 申请日: 2019-04-25
公开(公告)号: CN110035603B 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 张东明;何为;周璇;祝镭峡;何伍洪;陈苑明;王守绪;周国云;王翀;李清华;艾克华 申请(专利权)人: 电子科技大学;四川英创力电子科技股份有限公司
主分类号: H05K1/16 分类号: H05K1/16
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种印制电路埋嵌电感的制备方法,属于电感制备技术领域。本发明通过在介质表面依次形成金属种子层和图形化抗蚀层,在没有抗蚀层覆盖的金属种子层上形成金属导体结构,并将图形化抗蚀层和其下覆盖的金属种子层作为牺牲层去除,再在金属导体结构上沉积磁性薄膜,从而实现印制电路埋嵌电感的制作。本发明能够实现在任意基材上制作埋嵌电感,使得埋嵌电感元件应用更加方便、灵活;制得产品的电感值提升显著,同时也避免了在导磁材料上制作通孔所导致电感性能不可控的问题;制备工艺与印制电路板生产流水线兼容,无需增加额外的工序,减少了设备和技术的投入,有利于降低成本,实现工业化生产。
搜索关键词: 一种 印制电路 电感 制备 方法
【主权项】:
1.一种印制电路埋嵌电感的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤:1:在介质层表面形成金属种子层;步骤2:经图形转移技术在步骤1制得的金属种子层上覆盖图形化的抗蚀层;步骤3:在没有抗蚀层覆盖的金属种子层上生长金属导体层;步骤4:去除所述抗蚀层和抗蚀层覆盖的金属种子层,制备得到埋嵌电感的导体结构;步骤5:在步骤4制得的导体结构表面形成磁性薄膜。
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