[发明专利]最高分辨率为5nm含酰胺基团含氟嵌段的纳米复合材料的制备及在DSA光刻领域的应用有效
| 申请号： | 201910337700.2 | 申请日： | 2019-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN110105513B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 邓海;李志龙 | 申请（专利权）人： | 珠海雅天科技有限公司 |
| 主分类号： | C08F293/00 | 分类号： | C08F293/00;C08F220/22;C08F2/38;C08F8/32;G03F7/004 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 俞梁清 |
| 地址： | 519000 广东省珠海市横琴新区环*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了最高分辨率为5nm含酰胺基团含氟嵌段的纳米复合材料的制备及在DSA光刻领域的应用，构成所述纳米复合材料的嵌段聚合物的制备原料包括第一单体和第二单体，所述第一单体包括至少一种(甲基)丙烯酸酯类化合物；所述第二单体包括至少一种可功能化小分子化合物；所述可功能化小分子化合物中含有氨基。所述制备方法包括以下步骤：先将第一单体聚合制得聚合物前体，再将制得的聚合物前体与第二单体进行酯氨解的小分子反应即得。本发明方案DSA材料在纳米催化剂、纳米储能器件或纳米生物医药的制备中均具有良好的应用。与现有技术相比，该材料具有分辨率可达5nm、潜在缺陷率低、刻蚀对比度高且应用前景好等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 最高 分辨率 nm 胺基 团含氟嵌段 纳米 复合材料 制备 dsa 光刻 领域 应用 | ||
【主权项】：
1.一种最高分辨率可达5nm的含酰胺和含氟嵌段的纳米复合材料，其特征在于：构成所述纳米复合材料的嵌段聚合物的制备原料包括第一单体和第二单体，所述第一单体包括至少一种(甲基)丙烯酸酯类化合物；所述第二单体包括至少一种可功能化小分子化合物；所述可功能化小分子化合物中含有氨基。
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