[发明专利]一种藏青色活性染料及其加工方法有效

专利信息
申请号: 201910340614.7 申请日: 2019-04-25
公开(公告)号: CN110157216B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 周雷云;刘子轩;刘卫斌;程翠云;黄武 申请(专利权)人: 上海俪源科技有限公司
主分类号: C09B62/513 分类号: C09B62/513;C09B62/09
代理公司: 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人: 谢绪宁;薛赟
地址: 201600 上海市松江区漕河泾开发*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种藏青色活性染料及其加工方法。该藏青色活性染料的结构式如(I)所示:式中R1为‑NH2,R2为‑OH;R3,R4分别独立选自其中R5为氯或氟,R6选自下式之一:NH2CH2CH2OCH2CH2SO2W、NH2CH2CH2SO2W;其中X选自‑SO2CH2CH2OSO3M或‑SO2CH=CH2,R7选自氢原子或C1~C4的烷烃,W选自‑CH=CH2、‑CH2CH2Cl、‑CH2CH2OSO3M,M选自H或碱金属。本发明藏青色活性染料具有提升率和固色率高,且具有较好的染色牢度的优点。
搜索关键词: 一种 藏青色 活性染料 及其 加工 方法
【主权项】:
1.一种藏青色活性染料,其特征在于,该藏青色活性染料的结构式如式(I)所示:式中R1为‑NH2,R2为‑OH;R3,R4分别独立选自其中R5为氯或氟,R6选自下式之一:NH2CH2CH2OCH2CH2SO2W、NH2CH2CH2SO2W;其中X选自‑SO2CH2CH2OSO3M或‑SO2CH=CH2,R7选自氢原子或C1~C4的烷烃,W选自‑CH=CH2、‑CH2CH2Cl、‑CH2CH2OSO3M,M选自H或碱金属。
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