[发明专利]一种提高声表面波器件显影一致性的方法

摘要

本发明公开了一种提高声表面波器件显影一致性的方法，在显影腔左侧添加可旋转的腔体盖，同时晶圆显影时腔体内部通入少量氮气，用以控制酸性气体；通过调整显影臂摆臂的位置参数控制显影液喷洒的路径，并控制显影臂摆臂的速度、显影液流量计和喷洒时间控制喷洒到晶圆上的液量，使显影液平铺在晶圆上并且以较低的转速旋转，以实现旋转浸泡式显影，从而提高声表面波器件显影一致性，进而提高产品的合格率。

主权项

1.一种提高声表面波器件显影一致性的方法，其特征在于，在显影腔的一侧设置可旋转的腔体盖，显影腔和腔体盖之间用轴承连接，且在显影腔内设置氮气管道；显影步骤包括：第一步：空转；空转结束后在显影腔内通过氮气管道通入一定量的氮气；第二步：铺显影液；晶圆以速度N2转动，显影臂以SPD3的速度从POS3的位置运行到POS4的位置，运动一个来回并在运行过程中喷显影液，显影臂再以SPD1的速度回归原位；最后，将腔体盖旋转至显影腔上方，一段时间后再将盖旋转至显影腔一侧，并关闭氮气；第三步：旋转式浸泡；第四步：顶部喷去离子水，晶圆以速度N4转动，显影臂以SPD1的速度运行到POS2的位置，显影臂再以SPD4的速度从POS2的位置运行到POS5的位置，运动M个来回并在运行过程中喷去离子水；第五步：顶部和底部喷去离子水，晶圆以速度N5转动，显影臂以SPD4的速度从POS2的位置运行到POS5的位置，运动M个来回并在运行过程中喷去离子水；第六步：甩干，晶圆以速度N6转动，显影臂以SPD1的速度回归原位；其中，POS3为靠近晶圆中心位置，从POS3的位置到晶圆边缘依次设置了三个位置，分别记为POS2、POS4与POS5。