[发明专利]刻蚀液、刻蚀组合液以及刻蚀方法在审
| 申请号： | 201910342868.2 | 申请日： | 2019-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN109930154A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 赵芬利;秦文;张月红 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/44 | 分类号： | C23F1/44 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种刻蚀液、刻蚀组合液以及刻蚀方法。刻蚀液包括双氧水、第一缓冲液、第一螯合剂、调节剂、醇类物质、第一抑制剂以及去离子水。刻蚀组合液包括上述刻蚀液和补给液，其中补给液包括溶解剂、第二缓冲液、第二螯合剂以及第二抑制剂。该方案中刻蚀液不包含氟，避免了对基板的腐蚀，提高了显示面板的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀液 刻蚀组合 补给液 缓冲液 抑制剂 螯合剂 刻蚀 双氧水 醇类物质 去离子水 显示面板 调节剂 对基板 良品率 溶解剂 腐蚀 | ||
【主权项】：
1.一种刻蚀液，其特征在于，包括：双氧水、第一缓冲液、第一螯合剂、调节剂、醇类物质、第一抑制剂以及去离子水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司，未经深圳市华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910342868.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：刻蚀液及刻蚀装置
- 下一篇：一种劣化混凝土修复加固的电化学方法
