[发明专利]水印添加方法、解析方法、装置、电子设备及存储介质在审
| 申请号： | 201910343547.4 | 申请日： | 2019-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN110084735A | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 李祥 | 申请（专利权）人： | 新华三云计算技术有限公司 |
| 主分类号： | G06T1/00 | 分类号： | G06T1/00 |
| 代理公司： | 北京超成律师事务所 11646 | 代理人： | 邓超 |
| 地址： | 610000 四川省成都市高新区天华二路2*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及计算机技术领域，尤其涉及一种水印添加方法、解析方法、装置、电子设备及存储介质，能够实现水印的添加和解析，省时省力。上述水印添加方法包括：根据接收到的水印配置信息，在创建的图层上添加水印内容，得到水印图层；将所述水印图层和待处理图像进行融合处理后，得到融合后的图像；其中，所述融合后的图像与所述待处理图像在所述水印内容对应的位置处的像素点之间存在区别特征。 | ||
| 搜索关键词： | 水印添加 待处理图像 存储介质 电子设备 水印内容 水印图 水印 解析 计算机技术领域 图像 配置信息 区别特征 融合处理 融合 位置处 像素点 省时 图层 省力 创建 申请 | ||
【主权项】：
1.一种水印添加方法，其特征在于，所述方法包括：根据接收到的水印配置信息，在创建的图层上添加水印内容，得到水印图层；其中，所述水印图层中所述水印内容所在区域的透明度低于第一设定值，除所述水印内容所在区域以外的区域的透明度低于第二设定值，所述第二设定值小于所述第一设定值；将所述水印图层和待处理图像进行融合处理后，得到融合后的图像；其中，所述融合后的图像与所述待处理图像在所述水印内容对应的位置处的像素点之间存在区别特征。
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