[发明专利]一种三维NAND型铁电存储器、制作方法及操作方法有效

专利信息
申请号: 201910349696.1 申请日: 2019-04-28
公开(公告)号: CN110071116B 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 霍宗亮;李春龙;张瑜;洪培真;邹兴奇;靳磊 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L27/11597 分类号: H01L27/11597;G11C11/22
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种三维NAND型铁电存储器、制作方法及操作方法,该三维NAND型铁电存储器基于现有的铁电存储器结构,在铁电层和介质层之间插入一层辅栅极材料层,构成三维NAND型铁电存储器,单元的栅极叠层为主栅极材料层、铁电层、辅栅极材料层和介质层,配合辅栅极材料层单独对铁电层进行编程和擦除操作,从而有效改善铁电存储器的可靠性,即增大了存储窗口,提高了器件耐久性以及提升了器件的保持特性。
搜索关键词: 一种 三维 nand 型铁电 存储器 制作方法 操作方法
【主权项】:
1.一种三维NAND型铁电存储器,其特征在于,所述三维NAND型铁电存储器包括:基底;设置在所述基底上的叠层结构,所述叠层结构包括主栅极材料层和隔离层,在垂直于所述基底的方向上,所述主栅极材料层和所述隔离层交叠排布,且相邻所述基底的底层为主栅极材料层,背离所述基底的顶层为隔离层;贯穿所述叠层结构的多个通孔;在每个所述通孔的侧壁上依次设置的主栅极缓冲层、铁电层、辅栅极材料层、介质层和沟道材料层,以形成多个操作单元。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910349696.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top