[发明专利]一种基于GexSi1-x可变晶格常数基体的红光半导体激光器在审
申请号: | 201910351649.0 | 申请日: | 2019-04-28 |
公开(公告)号: | CN110165555A | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 林涛;齐玥;邓泽军;赵荣进;马泽坤;宁少欢 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | H01S5/343 | 分类号: | H01S5/343;H01S5/32 |
代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 杨洲 |
地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 一种基于GexSi1‑x可变晶格常数基体的红光半导体激光器,激光器的结构从下至上依次包括:N面电极,锗衬底,应变缓冲层,锗硅基体层,缓冲层,下限制层,下波导层,量子阱和量子垒,上波导层,上限制层,势垒层,介质薄膜,欧姆接触层,P面电极;本发明的基于GexSi1‑x可变晶格常数基体的红光半导体激光器,在保证有源区激射波长变短的同时减小了量子阱的张应变,可解决超短波长红光激光器中面临的较大张应变有源区缺陷多的问题,同时也提高了该波段激光器的输出功率和光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 红光半导体激光器 晶格常数 可变 激光器 量子阱 张应变 源区 光电转换效率 红光激光器 欧姆接触层 应变缓冲层 激射波长 介质薄膜 上波导层 上限制层 输出功率 下波导层 下限制层 缓冲层 基体层 量子垒 势垒层 波段 衬底 减小 锗硅 保证 | ||
【主权项】:
1.一种基于GexSi1‑x可变晶格常数基体的红光半导体激光器,其特征在于,激光器所用外延片结构从下至上依次包括:N面电极(1),P面电极(2),Ge衬底(3),应变缓冲层(4),GeSi基体层(5),GaInP缓冲层(6),AlInP下限制层(7),AlGaInP下波导层(8),GaInP量子阱和AlGaInP量子垒(9),AlGaInP上波导层(10),AlInP上限制层(11),介质薄膜(12),GaInP势垒层(13),GaAs欧姆接触层(14)。
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