[发明专利]等离子沉积设备及其应用方法在审
| 申请号： | 201910351805.3 | 申请日： | 2019-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN111847863A | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 丁杰;沈一春;钱宜刚;范艳层 | 申请（专利权）人： | 中天科技精密材料有限公司 |
| 主分类号： | C03B37/018 | 分类号： | C03B37/018 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 刘丽华;孙芬 |
| 地址： | 226009 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子沉积设备，用于对靶棒进行沉积处理，包括支架、安装于所述支架上的传动组件、若干温控组件及等离子组件，所述传动组件与所述靶棒连接，所述温控组件安装于所述靶棒周侧，以控制所述靶棒温度，所述等离子组件一端靠近所述靶棒，以对所述靶棒进行沉积处理。本发明提供一种等离子沉积设备的应用方法，利用所述靶棒外层直接沉积掺氟层。所述等离子沉积设备及其应用方法具有控制沉积温度并能调节光纤预制棒折射率的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 沉积 设备 及其 应用 方法 | ||
【主权项】：
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