[发明专利]一种隧穿场效应晶体管静态随机存储器单元的电路结构在审

专利信息
申请号: 201910355122.5 申请日: 2019-04-29
公开(公告)号: CN110189780A 公开(公告)日: 2019-08-30
发明(设计)人: 吴秀龙;杨州;蔺智挺;彭春雨;黎轩;卢文娟;陈军宁 申请(专利权)人: 安徽大学
主分类号: G11C11/412 分类号: G11C11/412;G11C11/419
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;陈亮
地址: 230601 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种隧穿场效应晶体管静态随机存储器单元的电路结构,包括8个N型隧穿场效应晶体管(NTFET)和4个P型隧穿场效应晶体管(PTFET),在工作电压下为0.6V时,该结构通过读写分离结构增强了TFET SRAM的读能力,通过采用写辅助管提高写能力并降低了写功耗,又消除了TFET做SRAM传输管时出现的反向偏置电流问题,从而降低电路的静态功耗提高了电路的稳定性。
搜索关键词: 隧穿场效应晶体管 静态随机存储器单元 电路结构 电路 电流问题 反向偏置 分离结构 工作电压 静态功耗 传输管 辅助管 读写 功耗
【主权项】:
1.一种隧穿场效应晶体管静态随机存储器单元的电路结构,其特征在于,所述电路结构包括8个N型隧穿场效应晶体管(NTFET)和4个P型隧穿场效应晶体管(PTFET),所述8个NTFET晶体管依次是N1~N8,所述4个PTFET晶体管依次是P1~P4,其中:PTFET晶体管P1的源极与电源电压电连接,漏极与NTFET晶体管N1的漏极及PTFET晶体管P3的漏极电连接;PTFET晶体管P2的源极与电源电压电连接,漏极与NTFET晶体管N2的漏极及PTFET晶体管P4的漏极和NTFET晶体管N8的栅极电连接;NTFET晶体管N1的源极与NTFET晶体管N3的漏极电连接;NTFET晶体管N2的源极与NTFET晶体管N4的漏极电连接;PTFET晶体管P2及NTFET晶体管N2的栅极与PTFET晶体管P3,PTFET晶体管P1及NTFET晶体管N1的漏极电连接。PTFET晶体管P1及NTFET晶体管N1的栅极与PTFET晶体管P4,PTFET晶体管P2及NTFET晶体管N2的漏极电连接。NTFET晶体管N3、N4、N8的源极都与地电连接;PTFET晶体管P3和P4的源极分别NTFET晶体管N5和N6的源极电连接;NTFET晶体管N5和N6的漏极都与电源电压电连接;NTFET晶体管N7的源极与NTFET晶体管N8的漏极电连接;进一步的,位线AL1与PTFET晶体管P3及NTFET晶体管N3的栅极电连接;位线AL2与PTFET晶体管P4及NTFET晶体管N4的栅极电连接;写字线WL1与NTFET晶体管N5的栅极电连接;写字线WL2与NTFET晶体管N6的栅极电连接;读位线RBL与NTFET晶体管N7的漏极电连接;读字线RWL与NTFET晶体管N7的栅极电连接。
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