[发明专利]一种用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉、制备及其使用有效
| 申请号： | 201910356353.8 | 申请日： | 2019-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN110171927B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 林孝发;林孝山;杨晋泳;张向卫 | 申请（专利权）人： | 福建良瓷科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/20 | 分类号： | C03C8/20;C04B41/89 |
| 代理公司： | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人： | 邱冬新 |
| 地址： | 362699 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉、制备及其使用，所述自洁釉修补釉原料组成包括如下质量份的物质：石英30‑40、钾长石粉25‑35、方解石14‑20、白云石2‑6、氧化铝2‑6、氧化锌5‑10、舒洁熔块0‑8、高岭土0‑5、硅酸锆2‑6，其中，所述硅酸锆在陶瓷中主要起乳浊的效果，所以硅酸锆的加入量会影响到釉的透明度，用来调整色差，同时本申请提出的自洁釉修补釉的熔融温度和熔长与底釉的熔融温度和熔长很接近，有利于减少毛孔，对瑕疵陶瓷进行修补后，与传统的修补釉和修补方法相比，与陶瓷本体釉面色差相接近，且毛孔少，修补效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 卫生陶瓷 修补 制备 及其 使用 | ||
【主权项】：
1.一种用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉，其特征在于，所述自洁釉修补釉原料组成包括如下质量份的物质：石英30‑40、钾长石粉25‑35、方解石14‑20、白云石2‑6、氧化铝2‑6、氧化锌5‑10、舒洁熔块0‑8、高岭土0‑5、硅酸锆2‑6。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建良瓷科技有限公司，未经福建良瓷科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910356353.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种自舒展高平滑的透明釉浆配方及制作工艺
- 下一篇：一种低温共烧陶瓷玻璃粉末
