[发明专利]暗场、明场、相衬、荧光多模式同步成像显微成像装置有效

专利信息
申请号: 201910361630.4 申请日: 2019-04-30
公开(公告)号: CN110161671B 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 戴博;周正萌;张大伟;王凯民;郑璐璐 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: G02B21/18 分类号: G02B21/18;G02B21/14;G02B21/12;G02B21/10;G02B21/36
代理公司: 上海邦德专利代理事务所(普通合伙) 31312 代理人: 余昌昊
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种暗场、明场、相衬、荧光多模式同步成像显微成像装置,具有样品台,所述样品台物镜焦点处用于放置样品,所述样品台一侧设置由若干台不同波长光源排列而成的光束发射单元,所述样品台另一侧依序设置光束处理单元、用于放大光束以保证光斑完整的照射在光束过滤单元的光束放大单元、光束过滤单元以及光束接收单元。本发明适用于生物观察检测,并且使用便捷,成本低,具有良好成像效果。
搜索关键词: 暗场 相衬 荧光 模式 同步 成像 显微 装置
【主权项】:
1.一种暗场、明场、相衬、荧光多模式同步成像显微成像装置,其特征在于,具有样品台(2),所述样品台(2)物镜焦点处用于放置样品,所述样品台一侧设置由若干台不同波长光源排列而成的光束发射单元(1),所述样品台(2)另一侧依序设置光束处理单元(3)、用于放大光束以保证光斑完整的照射在光束过滤单元(5)的光束放大单元(4)、光束过滤单元(5)以及光束接收单元(6)。
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