[发明专利]一种均匀镀膜的装置以及方法在审
| 申请号： | 201910361919.6 | 申请日： | 2019-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN111850477A | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 王正安 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种均匀镀膜的装置以及方法，该装置包括：点蒸发源阵列、加热组件、膜层监控机构和加热控制机构；点蒸发源阵列包括多个均匀排布的点蒸发源，在每个点蒸发源的外部设置加热组件；膜层监控机构包括：厚度测量器，用于监测基板的膜层厚度，成分分析器，用于监测基板的膜层成分，以及与厚度测量器和成分分析器连接的控制器，用于根据膜层厚度和膜层成分得到各个点蒸发源的蒸发量；加热控制机构与控制器和加热组件连接，用于根据蒸发量，控制加热组件对每个点蒸发源的加热输出功率。本发明通过设置多个均匀排布的点蒸发源，能够实现大面积的均匀镀膜，并通过实时监测数据，精确控制蒸发材料的蒸发量，提高了蒸发材料的有效利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 镀膜 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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