[发明专利]一种提高光学薄膜损伤阈值的大面激光薄膜制备装置

摘要

一种提高光学薄膜损伤阈值的大面激光薄膜制备装置，包括主控台、真空腔、膜料盘、膜料、膜料激发源、辅助源、工件盘、薄膜厚度控制系统、控温系统、膜厚均匀性修正系统、真空腔观察窗、光学基片，还包括实时激光拦截装置。本发明实施例提供的提高光学薄膜损伤阈值的大面激光薄膜制备装置，在现有技术基础上增加实时激光拦截装置，能够在镀膜过程中实时拦截并清理杂质颗粒。与现有技术相比，本发明实施例提供的装置可以实时拦截、清理杂质，实现边镀边提纯，同时增强化合反应达到理想化学计量比，提高光学薄膜的损伤阈值。

主权项

1.一种提高光学薄膜损伤阈值的大面激光薄膜制备装置，包括主控台(1)、真空腔(2)、膜料盘(3)、膜料(4)、膜料激发源(5)、辅助源(6)、工件盘(7)、薄膜厚度控制系统(8)、控温系统(9)、膜厚均匀性修正系统(10)、光学基片(11)；其特征在于，还包括实时激光拦截装置；主控台(1)，置于真空腔(2)外，用于设置并实时显示镀膜时工艺参数；真空腔(2)，用于提供光学镀膜所需的真空环境；膜料盘(3)，置于真空腔内，用于放置膜料；膜料(4)，提供形成光学薄膜所需材料；膜料激发源(5)，置于真空腔(2)内，用于产生高能粒子(5‑1)激发膜料盘(4)中的膜料(4)；辅助源(6)，置于真空腔(1)内，发射高速离子以增加所述激发后的膜料在目标方向的动能，并使其充分氧化；工件盘(7)，置于真空腔(1)内，用于固定待镀膜的光学基片(11)；薄膜厚度控制系统(8)，用于控制镀膜过程中膜层厚度；控温系统，置于真空腔(2)内，用于提供薄膜生长所需温度环境；实时激光拦截装置，用于发射高能激光面阵，高能激光面阵能够实时清除真空腔中的杂质颗粒和/或激发后的膜料中的杂质颗粒，实现提纯作用，以及增加激发后的膜料的原子活性，从而提高成膜化学计量比。