[发明专利]测量装置、曝光装置和制造物品的方法在审
申请号: | 201910367808.6 | 申请日: | 2019-05-05 |
公开(公告)号: | CN110456618A | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | 前田普教 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 宋岩<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了测量装置、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种测量装置,包括:第一滤光器单元,包括多个第一滤光器,并且每个第一滤光器被配置成允许具有不同波长带的光通过;第二滤光器单元,包括多个第二滤光器,并且每个第二滤光器被配置成降低光强度并允许光通过;取得单元,被配置成取得表示针对已经通过所述多个第一滤光器中的每个第一滤光器的光的波长带的、所述多个第二滤光器中的每个第二滤光器的透射率的数据;以及选择单元,被配置成基于由取得单元取得的数据,从所述多个第二滤光器中选择与所述多个第一滤光器中的一个第一滤光器一起布置在光路上的一个第二滤光器。 | ||
搜索关键词: | 滤光器 测量装置 取得单元 配置 波长带 曝光装置 选择单元 制造物品 透射率 | ||
【主权项】:
1.一种用于通过检测基板上的标记来测量基板的位置的测量装置,包括:/n第一滤光器单元,包括布置在被配置成输出用于照射标记的光的光源和被配置成捕获标记的图像传感器之间的光路上的多个第一滤光器,所述多个第一滤光器中的每个第一滤光器被配置成允许具有不同波长带的光通过;/n第二滤光器单元,包括布置在光源和图像传感器之间的光路上的多个第二滤光器,并且每个第二滤光器被配置成降低光的光强度并允许光通过;/n取得单元,被配置成取得表示针对已经通过所述多个第一滤光器中的每个第一滤光器的光的波长带的、所述多个第二滤光器中的每个第二滤光器的透射率的数据;以及/n选择单元,被配置成基于由取得单元取得的数据,从所述多个第二滤光器中选择与所述多个第一滤光器中的一个第一滤光器一起布置在光路上的一个第二滤光器。/n
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