[发明专利]一种D-A型氟硼二吡咯共轭聚合物的制备方法及应用

摘要

本发明提供了一种D‑A型氟硼二吡咯共轭聚合物的制备方法，聚合物由式或式所示结构的化合物与给电子单体、催化剂在有机溶剂体系中，惰性气体保护下，先进行避光反应，最后采用柱层析提纯，制备得到目标产物。所述式或式所示结构的化合物与给电子单体的摩尔比为1:1‑2，反应温度为90~130℃，时间为24~72h；所述给电子单体为5,5’‑双三甲基锡‑2,2’‑联噻吩，催化剂为氧化铜、三（2‑甲苯基）膦或三（二亚苄基丙酮）二钯中的任意一种或任意几种的混合，所述的有机溶剂为二氯甲烷。本发明提供的方法制备的聚合物在可见光范围内具有较好的吸收、合适的能级，适合做有机太阳电池中的给体材料。

主权项

1.一种D‑A型氟硼二吡咯共轭聚合物的制备方法，其特征在于：所述D‑A型氟硼二吡咯共轭聚合物由式I所示结构的化合物或式II所示结构的化合物与给电子单体、催化剂在有机溶剂体系中，惰性气体保护下，先进行避光反应，最后采用柱层析提纯，制备得到目标产物式Ⅲ所示结构的化合物或式Ⅳ所示结构的化合物，其中式I、式II、式Ⅲ或式Ⅳ的结构式为：式I：式II：式Ⅲ：式Ⅳ：