[发明专利]磁控溅射镀膜装置在审
| 申请号： | 201910369473.1 | 申请日： | 2019-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN111893445A | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 王培红;李晨光;胡国栋 | 申请（专利权）人： | 南昌欧菲显示科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 330013 江西省南昌*** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种磁控溅射镀膜装置，所述镀膜装置包括镀膜腔室、镀膜辊及多个旋转阴极，所述镀膜腔室包括多个子镀膜腔室，多个所述子镀膜腔室围绕所述镀膜辊周缘设置，每一所述子镀膜腔室内至少有一个所述旋转阴极。所述旋转阴极包括圆柱状的本体，装于所述本体外周面的靶材及装于所述本体内部的磁体，所述磁体包括第一磁体及对称设置于所述第一磁体两侧的两个第二磁体。所述第一磁体与所述第二磁体在所述靶材表面形成磁场，在所述横截面上，所述磁场包括第一磁场最大点和第二磁场最大点，所述第一磁场最大点或所述第二磁场最大点与所述交点的连线与所述中心线的夹角为溅射角，所述溅射角为12°～22°。本申请避免了溅射角过大影响导电薄膜的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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