[发明专利]遮蔽构件和具备该遮蔽构件的单晶生长装置有效
| 申请号： | 201910369851.6 | 申请日： | 2019-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN110468454B | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 藤川阳平 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C30B29/36 | 分类号： | C30B29/36;C30B23/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 王潇悦;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的遮蔽构件配置于单晶生长装置内，所述单晶生长装置具备晶体生长用容器、原料收纳部、基板支持部和加热装置，所述原料收纳部位于所述晶体生长用容器内的下部，所述基板支持部配置在所述原料收纳部的上方，且以与所述原料收纳部相对的方式支持基板，所述加热装置配置在所述晶体生长用容器的外周，所述单晶生长装置使原料从所述原料收纳部升华而在所述基板上生长所述原料的单晶，所述遮蔽构件是在所述原料收纳部与所述基板支持部之间配置使用的，所述遮蔽构件由至少1个结构体构成，所述结构体具有非平板形状，所述非平板形状是将所述结构体配置于所述装置内时，所述基板支持部侧的面为倾斜面的形状。 | ||
| 搜索关键词： | 遮蔽 构件 具备 生长 装置 | ||
【主权项】：
1.一种遮蔽构件，配置于单晶生长装置内，所述单晶生长装置具备晶体生长用容器、原料收纳部、基板支持部和加热装置，/n所述原料收纳部位于所述晶体生长用容器内的下部，/n所述基板支持部配置在所述原料收纳部的上方，且以与所述原料收纳部相对的方式支持基板，/n所述加热装置配置在所述晶体生长用容器的外周，/n所述单晶生长装置使原料从所述原料收纳部升华而在所述基板上生长所述原料的单晶，/n所述遮蔽构件是在所述原料收纳部与所述基板支持部之间配置使用的，其特征在于，/n所述遮蔽构件由至少1个结构体构成，所述结构体具有非平板形状，所述非平板形状是将所述结构体配置于所述装置内时在所述基板支持部侧具有倾斜面的形状。/n
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