[发明专利]一种氧缺陷增强光吸收型氧化钨材料的制备方法在审
| 申请号： | 201910370065.8 | 申请日： | 2019-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN110237838A | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 张红;宁小伟;王干;张亮 | 申请（专利权）人： | 张红 |
| 主分类号： | B01J23/30 | 分类号： | B01J23/30;B01J35/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 233600 安徽省亳州市谯城区药都*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于通过一步法引入一种富含氧缺陷的WO3纳米片材料，将其用于光催化降解催化剂时，其表现出了良好的光降解性能。本发明提出的一种富含氧缺陷的WO3纳米片材料，其是通过在生成纳米片结构的同时与氧缺陷引入剂‑硝酸同步反应，也就是在生成纳米片的过程中，其表面上不断的引入氧缺陷，这些氧缺陷的引入，有利于该纳米片材料增强其光吸收性能，从而有利于其光降解性能的提升。 | ||
| 搜索关键词： | 氧缺陷 纳米片材料 引入 光降解性能 纳米片 富含 光催化降解催化剂 光吸收性能 氧化钨材料 同步反应 光吸收 一步法 硝酸 制备 表现 | ||
【主权项】：
1.一种氧缺陷增强光吸收型氧化钨材料的制备方法，其特征在于：主要包括以下几步，第一步，称取适量的六氯化钨，将其溶解在乙醇和二甲苯的混合溶剂中，充分搅拌，直至混合均匀；第二步，向混合均匀的混合液中再加入适量的PVP和硝酸，继续搅拌至均匀；第三步，将步骤二中搅拌均匀的混合液转移到水热反应釜中，然后密封，在180‑220℃下反应15‑20h；第四步，反应结束后，去除反应釜自然冷却至室温，然后使用去离子水和乙醇混合液洗涤悬浮在反应釜中的产物3次，之后，烘干研磨就可使用。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于张红，未经张红许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910370065.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
