[发明专利]膜层的制备方法和反应腔室在审
| 申请号： | 201910370983.0 | 申请日： | 2019-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN111893441A | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 张兴;孙红霞;潘世荣;李建勇 | 申请（专利权）人： | 领凡新能源科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京智晨知识产权代理有限公司 11584 | 代理人： | 张婧 |
| 地址： | 101407 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及溅射镀膜技术领域，公开了一种膜层的制备方法和反应腔室，用以减少阳极消失、靶溅射不均匀等原因引起的成膜问题。其中膜层的制备方法包括：向孪生靶输入双极性波的中频交流电进行溅射，并控制孪生靶中的两个靶向相反的方向转动；输送衬底至溅射区域，使得孪生靶被溅射下的原子沉积在衬底上形成膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 方法 反应 | ||
【主权项】：
暂无信息
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