[发明专利]一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法在审
| 申请号： | 201910378992.4 | 申请日： | 2019-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN110095950A | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 路翠翠;张红钰;肖致远;刘舟慧;王晨阳;钟锦锐 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京理工正阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 | 代理人： | 邬晓楠 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，属于微纳加工领域。本发明公开了一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，主要利用聚焦离子束刻蚀系统(FIB)完成对不同弯曲程度纳米梁的制备，涉及微纳加工领域。本发明通过FIB刻蚀样品、氢氟酸缓冲液腐蚀样品两个步骤制备出纳米梁，通过控制聚焦离子束的束流大小和扫描时间制备出不同弯曲程度的纳米梁。本发明提供了一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，制备方法简单易行、制备精度高，为腔光力学的研究提供了新型纳米平台，为光力纳米器件的研究奠定了基础。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 纳米梁 微纳加工 聚焦离子束刻蚀 聚焦离子束 出纳米梁 刻蚀样品 纳米器件 新型纳米 缓冲液 氢氟酸 光力 束流 力学 扫描 腐蚀 研究 | ||
【主权项】：
1.一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，其特征在于：利用FIB直接在介质材料上刻蚀空气孔纳米梁及其两侧激发端，将整个结构放入氢氟酸缓冲液中腐蚀，制备出悬空纳米梁，将悬空纳米梁放入聚焦离子束电子束双束系统中，用离子束扫描样品表面，制备出弯曲的纳米梁。
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