[发明专利]阵列曝光机的卡盘的修复方法、卡盘及阵列曝光机在审
| 申请号： | 201910379632.6 | 申请日： | 2019-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN110119073A | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 王宏强 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B24B7/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种阵列曝光机的卡盘的修复方法、卡盘及阵列曝光机。阵列曝光机的卡盘的修复方法包括以下步骤：S1、预先获取所述卡盘的目标区域处的当前的初始平坦度参数；S2、若所述当前平坦度参数不满足第一预设条件，则采用预设材料的笔对所述目标区域进行涂抹预设次数；S3、对涂抹后的所述目标区域进行打磨，直至所述目标区域的阻力小于第一阈值；S4、对经过打磨后的所述目标区域进行清洁；S5、对所述目标区域进行检测以获取所述目标区域的实测平坦度参数；S6、若所述实测平坦度参数满足第一预设条件则修复完成。本发明通过采用对应材料的笔对卡盘的目标区域进行涂布，从而完成对该目标区域的磨损的修复，无需更好新的卡盘，可以降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 目标区域 曝光机 平坦度 修复 卡盘 预设条件 预设 实测 涂抹 打磨 参数满足 预先获取 对卡盘 磨损 检测 清洁 | ||
【主权项】：
1.一种阵列曝光机的卡盘的修复方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、预先获取所述卡盘的目标区域处的当前的初始平坦度参数；S2、若所述当前平坦度参数不满足第一预设条件，则采用预设材料的笔对所述目标区域进行涂抹预设次数；S3、对涂抹后的所述目标区域进行打磨，直至所述目标区域的阻力小于第一阈值；S4、对经过打磨后的所述目标区域进行清洁；S5、对所述目标区域进行检测以获取所述目标区域的实测平坦度参数；S6、若所述实测平坦度参数满足第一预设条件则修复完成。
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