[发明专利]一种用于测量晶体内部介观缺陷散射的激光层析扫描仪在审
| 申请号： | 201910380849.9 | 申请日： | 2019-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN110118782A | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 王帅华;吴少凡;徐鸿锋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350002 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种用于测量晶体内部介观缺陷散射的激光层析扫描仪。本激光层析扫描仪包含探测光源、样品架、测量光路、功率计、显微镜组、CCD探测器以及数据处理软件；其中测量光路要求探测光须完全贯穿样品，贯穿样品后剩余的激光由激光功率计接收；显微镜组在光路的侧面聚焦于样品内的探测光，并收集样品内部缺陷受探测光照射后散射的光，最后成像于CCD的光敏面，在数据处理软件中可以对缺陷的位置和大小进行标注，以及散斑强度的存储和分析；只需通过电机移动样品架来控制探测光在样品内的位置，即可获得样品内部不同层次的缺陷散射强度。 | ||
| 搜索关键词： | 探测光 散射 激光层 扫描仪 数据处理软件 测量光路 测量晶体 显微镜组 样品架 激光功率计 电机移动 内部缺陷 探测光源 功率计 光敏面 贯穿 光路 散斑 成像 标注 照射 存储 激光 聚焦 侧面 分析 | ||
【主权项】：
1.一种用于测量晶体内部介观缺陷散射的激光层析扫描仪，其特征在于，所述激光层析扫描仪包括探测光源、样品架、测量光路、功率计、显微镜组、CCD探测器以及数据处理软件；其中测量光路要求探测光须完全贯穿样品，贯穿样品后剩余的激光由激光功率计接收；显微镜组在光路的侧面聚焦于样品内的探测光，并收集样品内部缺陷受探测光照射后散射的光，最后成像于CCD的光敏面；只需通过电机移动样品架来控制探测光在样品内的位置，即可获得样品内部不同层次的缺陷散射强度。
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