[发明专利]OPC模型建立过程中针对大尺寸非关键层图形的光学参数优化方法

摘要

本发明公开了一种OPC模型建立过程中针对大尺寸非关键层图形的光学参数优化方法，包括：收取最佳曝光条件下的CDSEM数据；初选离胶起始位置的初始值和光束焦点的初始值；构建离胶起始位置‑光束焦点的所有初始值组合；对每个离胶起始位置‑光束焦点的初始值组合进行复选，在每个离胶起始位置‑光束焦点的初始值组合中确定一个离胶起始位置‑光束焦点的最佳值组合；对所有的离胶起始位置‑光束焦点的最佳值组合进行分析比对，从中确定最终的离胶起始位置‑光束焦点组合。本发明在不需要收集工艺窗口条件下的CDSEM数据的前提下，可以对离胶起始位置和光束焦点进行快速高效的筛选和组合，而且可以同时获得多个离胶起始位置‑光束焦点组合，提供更多选择。

主权项

1.一种OPC模型建立过程中针对大尺寸非关键层图形的光学参数优化方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1，收取最佳曝光条件下的CDSEM数据；步骤S2，初选离胶起始位置的初始值和光束焦点的初始值；步骤S3，构建离胶起始位置‑光束焦点的所有初始值组合；步骤S4，对每个离胶起始位置‑光束焦点的初始值组合进行复选，在每个离胶起始位置‑光束焦点的初始值组合中确定一个离胶起始位置‑光束焦点的最佳值组合；步骤S5，对所有的离胶起始位置‑光束焦点的最佳值组合进行分析比对，从中确定最终的离胶起始位置‑光束焦点组合。