[发明专利]一种低粗糙度氮化缸套及其制备方法在审
| 申请号： | 201910385679.3 | 申请日： | 2019-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN110056445A | 公开（公告）日： | 2019-07-26 |
| 发明（设计）人： | 程雨;谢丁胜;黄韦;葛乃进 | 申请（专利权）人： | 安庆帝伯格茨缸套有限公司 |
| 主分类号： | F02F1/00 | 分类号： | F02F1/00;C23C8/32 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 娄岳 |
| 地址： | 246005 安徽省安庆*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种低粗糙度氮化缸套及其制备方法，包括缸套本体，所述缸套本体的内圆粗糙度小于1um，所述缸套本体的内圆表面由内至外依次形成有2～12μm的铁的碳氮化合物层和50μm以上的扩散层。一种低粗糙度氮化缸套的制备方法，包括：通过离心铸造方式获得缸套本体；对缸套本体内圆进行气体氮化处理，在内圆表面形成2～12μm的铁的碳氮化合物层，该内圆表面的硬度为HV400‑700，内圆粗糙度小于1um。本发明在缸套本体内圆表面生成的化合物层严密、硬度高，且有着较好的韧性,能够提高部品表面耐摩耗性和耐蚀性，同时能降低缸套本体内圆珩磨时的氮化层脱落，减小表面凹槽，从而使得表面粗糙度降低，达到减少机油耗的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 缸套本体 内圆 氮化 低粗糙度 内圆表面 缸套 制备 碳氮化合物 粗糙度 离心铸造方式 表面粗糙度 表面凹槽 化合物层 气体氮化 氮化层 机油耗 扩散层 耐蚀性 圆表面 部品 减小 耐摩 珩磨 | ||
【主权项】：
1.一种低粗糙度氮化缸套，包括缸套本体，其特征在于，所述缸套本体的内圆粗糙度小于1um，所述缸套本体的内圆表面由内至外依次形成有2～12μm的铁的碳氮化合物层和50μm以上的扩散层。
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