[发明专利]一种抗蚀剂下层膜单体和组合物及图案形成方法

摘要

本发明属于光刻领域，具体涉及一种抗蚀剂下层膜单体和组合物及图案形成方法。所述抗蚀剂下层膜组合物含有式(1)所示的单体、式(2)和/或式(3)所示的聚合物、以及溶剂，其中，Ar1、Ar2、Ar3和Ar4各自独立地表示经取代或未经取代的碳原子数为6‑100的芳基；式(1)中，X表示碳原子为1‑6的亚烷基，R1表示碳原子数为1‑6的烷基或碳原子数为6‑16的芳基，m为1‑4的整数；式(2)和式(3)中，R2表示氢原子或碳原子数为6‑16的芳基，p和q各自独立为1‑200的整数。本发明提供的抗蚀剂下层膜组合物兼具有优异的耐刻蚀性能、耐热性、溶剂溶解性、间隙填充特征和平坦化特征。

主权项

1.一种抗蚀剂下层膜单体，其特征在于，所述抗蚀剂下层膜单体具有式(1)所示的结构：式(1)中，Ar₁表示经取代或未经取代的碳原子数为6‑100的芳基，X表示碳原子为1‑6的亚烷基，R₁表示碳原子数为1‑6的烷基或碳原子数为6‑16的芳基，m为1‑4的整数。