[发明专利]一种用于3D摄像头人脸识别模块的盖板及其生产方法在审

专利信息
申请号: 201910388482.5 申请日: 2019-05-10
公开(公告)号: CN110177191A 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 黄伟雄 申请(专利权)人: 惠州市航泰光电有限公司;黄伟雄
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225
代理公司: 深圳市嘉宏博知识产权代理事务所 44273 代理人: 孙强
地址: 516200 广东省惠*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种用于3D摄像头人脸识别模块的盖板及其生产方法,其方法包括如下步骤,第一步、开料,第二步、外形加工,第三步、清洁,第四步、强化,第五步、清洁,第六步、印刷并制作摄像头光线穿透区,在该盖板基片背面设置遮蔽油墨层,同时,在该遮蔽油墨层上避空形成光线穿透区,第七步、清洁,第八步、在该盖板基片的该光线穿透区的出光口位置架设膜层,该膜层包括AR区镀膜层以及IR区镀膜层,第九步、将第八步完成的产品进行外观检验,然后覆盖保护膜,得到成品。
搜索关键词: 光线穿透 人脸识别模块 遮蔽油墨层 盖板基片 镀膜层 盖板 膜层 清洁 出光口位置 摄像头 背面设置 外观检验 外形加工 保护膜 避空 开料 架设 印刷 生产 覆盖 制作
【主权项】:
1.一种用于3D摄像头人脸识别模块盖板的生产方法,其特征在于,包括如下步骤:第一步、开料,将选定的盖板大张原片用钻石刀轮裁切分片机分切成若干盖板基片,第二步、外形加工,将第一步中的该盖板基片利用夹具固定在CNC加工平台上,之后对该盖板基片外形尺寸进行CNC精加工,公差控制在+/‑0.05mm,第三步、清洁,将第二步中完成CNC精加工的该盖板基片进行超声波清洗,第四步、强化,将第三步中清洗干净的该盖板基片分别单插于料架槽中,放置到钾、硅分子置换炉中,密封盖锁紧,之后进行结构强化,第五步、清洁,将第四步完成置换强化的该盖板基片进行超声波清洗,第六步、印刷并制作摄像头光线穿透区,在该盖板基片背面设置遮蔽油墨层,同时,在该遮蔽油墨层上避空形成光线穿透区,该光线穿透区具有入光口、出光口以及透光内壁,该遮蔽油墨层具有顶面以及底面,其中,该顶面贴合在该盖板基片的背面上,该光线穿透区的该入光口设置在该遮蔽油墨层的该顶面上,该光线穿透区的该出光口设置在该遮蔽油墨层的该底面上,该透光内壁连接在该入光口与该出光口之间,该出光口的孔径大于该入光口的孔径,该遮蔽油墨层由若干油墨层叠设而成,该光线穿透区同时贯穿穿透若干该油墨层,第七步、清洁,对该盖板基片进行超声波清洗,以保证光线穿透区的清洁,第八步、在该盖板基片的该光线穿透区的出光口位置架设膜层,该膜层包括AR区镀膜层以及IR区镀膜层,其中,AR区镀膜层的制作方法包括如下步骤,步骤A、将该盖板基片上不需要设置AR区镀膜层的光线穿透区利用保护膜片保护遮挡起来,步骤B、将步骤A中的该盖板基片排列在真空电镀设备的锥形料具中,步骤C、将电镀使用的原材料氧化硅以及氧化钛分别放置在升化器中,氧化钛与氧化硅的重量比例为1:1.5,步骤D、将真空电镀设备密封,将装置有氧化硅的该升化器的温度控制在1650℃,将装置有氧化钛的该升化器温度控制在1850℃,之后按照一层氧化钛一层氧化硅的方式,交替将生化后的氧化钛以及氧化硅推进到锥形料具中进行交替镀膜,总体镀膜层数为六层,整体镀膜时间为60分钟,其中,氧化钛层与氧化硅层的厚度比例为1:1.5此刻,完成在对应光线穿透区上的AR区镀膜层的构建,IR区镀膜层的制作方法包括如下步骤,步骤A、将该盖板基片上不需要设置IR区镀膜层的光线穿透区利用保护膜片保护遮挡起来,步骤B、将步骤A中的该盖板基片排列在真空电镀设备的锥形料具中,步骤C、将电镀使用的原材料氧化硅以及氧化钛分别放置在升化器中,氧化硅与氧化钛的重量比例为1:1,步骤D、将真空电镀设备密封,将装置有氧化硅的该升化器的温度控制在1650℃,将装置有氧化钛的该升化器温度控制在1850℃,之后按照一层氧化钛一层氧化硅的方式,交替将生化后的氧化钛以及氧化硅推进到锥形料具中进行交替镀膜,总体镀膜层数为十八层,整体镀膜时间为90分钟,其中,氧化钛层与氧化硅层的厚度比例为1:1,此刻,完成在对应光线穿透区上的AR区镀膜层的构建,第九步、将第八步完成的产品进行外观检验,然后覆盖保护膜,得到成品。
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