[发明专利]一种用于光刻的上表面抗反射涂层组合物

摘要

本发明公开了一种用于光刻的上表面抗反射涂层组合物，涉及光刻加工技术领域，解决目前用于上表面抗反射涂层组合物的透射率低、折射率高，且涂层厚度较大的问题。本发明主要由含氟物、酸、胺和适合溶解这些组分的溶剂组成，PH值小于或等于7，所述含氟物为全氟聚醚类聚合物和含氟化合物其中的一种或两种的混合物，所述含氟物与水溶性树脂溶液混配，形成均一溶液，再在含氟物中加入胺类化合物反应生成胺盐，将混合有所述含氟物的水溶性树脂溶液与所述胺盐溶液混合均匀后加入氨基酸衍生物、水配制形成均一透明的溶液。本发明具有防止光在光刻胶中多次反射，减少光刻过程中光刻胶涂层厚度，提升光刻图形质量的优点。

主权项

1.一种用于光刻的上表面抗反射涂层组合物，主要组成为含氟物，(1)所述含氟物中含有全氟聚醚类聚合物时，全氟聚醚类结构为以下结构：A‑[O‑B]_a‑[O‑C]_b‑[O‑D]_c‑O‑E‑F，其中A为CF3,CF3CF2,CF3CF2CF2基团中的一种或者几种；B为CF₂CF₂,CF(CF₃)CF₂,CF₂,CF₂CF₂CF₂基团中的一种或者几种；C为CF₂CF₂,CF(CF₃)CF₂,CF₂,CF₂CF₂CF₂基团中的一种或者几种；D为CF₂CF₂,CF(CF₃)CF₂,CF₂,CF₂CF₂CF₂基团中的一种或者几种；E为COO,CF₂COO,CF(CF₃)COO,CF₂CF₂COO基团中的一种或者几种；F为H、CH₃、CH₂CH₃、NH₄基团中的一种或者几种，所述全氟聚醚类聚合物的聚合度分布为1～30且分子量分布为200～5000，其中a为0～30中任意一整数，b为0～30中任意一整数，c为0～30中任意一整数，a+b+c的值的范围为1～30，所述全氟聚醚类聚合物分别与水、胺和酯类化合物反应生成羧酸、胺和酯类，生成的所述羧酸、胺和酯类在组合物中所占质量比为0.5％～15wt％，(2)所述含氟物中含有含氟化合物时，该化合物为F(CF2)_nCOOH或H(CF2)_nCOOH中的一种或几种，其中n≤4，所述含氟物可以是全氟聚醚类聚合物，也可以是含氟化合物，既可以单独使用其中一种，也可以混合使用。