[发明专利]电容器的制造方法在审
| 申请号： | 201910397664.9 | 申请日： | 2019-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN110491992A | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 小松嘉英;五十岚武司;小栗裕之 | 申请（专利权）人： | 住友电工光电子器件创新株式会社 |
| 主分类号： | H01L49/02 | 分类号： | H01L49/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 11219 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵晶;高培培<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及电容器的制造方法，具有MIM构造的电容器的制造方法包括：在下部电极的上表面通过多次层叠来形成电介质的步骤；及在电介质的上表面形成上部电极的步骤。电介质包括：在下部电极的上表面形成的第一电介质层；及在第一电介质层的上表面形成且与上部电极相接的第二电介质层。形成电介质的步骤包括：在下部电极的上表面形成第一电介质层的步骤；通过喷射清洗及二流体清洗中的至少一者对第一电介质层(31)的上表面进行清洗的步骤；及在清洗后的第一电介质层的上表面形成第二电介质层的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 电介质层 上表面 电介质 下部电极 电容器 清洗 上部电极 喷射清洗 流体 制造 | ||
【主权项】：
1.一种电容器的制造方法，所述电容器具有将下部电极、电介质及上部电极层叠而成的MIM构造，其中，所述电容器的制造方法包括：/n在所述下部电极的上表面通过多次层叠来形成所述电介质的工序；及/n在所述电介质的上表面形成所述上部电极的工序，/n所述电介质包括：在所述下部电极的上表面形成的第一电介质层；及在所述第一电介质层的上表面形成且与所述上部电极相接的第二电介质层，/n形成所述电介质的工序中，在所述下部电极的上表面形成至少一层所述第一电介质层，通过喷射清洗及二流体清洗中的至少一者对所述第一电介质层的上表面进行清洗，在清洗后的所述第一电介质层的上表面形成所述第二电介质层。/n
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