[发明专利]一种高性能二氧化硅的制备工艺有效
申请号: | 201910403319.1 | 申请日: | 2019-05-15 |
公开(公告)号: | CN110104655B | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 武晓旭 | 申请(专利权)人: | 福建省馨和纳米硅业有限公司 |
主分类号: | C01B33/193 | 分类号: | C01B33/193 |
代理公司: | 上海微策知识产权代理事务所(普通合伙) 31333 | 代理人: | 王小穗 |
地址: | 353200 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明属于纳米粉体材料技术领域,涉及一种高性能二氧化硅的制备工艺。本发明采用多种改性剂对二氧化硅进行表面改性,改性后的粉体包裹性非常好,在应用中,粉体和改性剂不会分离,大大提高了在应用中的使用效果,打破了传统干法处理产量低的瓶颈,降低了人工成本,实现了大规模的生产,大大提高了工作效率,并且通过调整改性剂的搭配使用,可以合成出具有多种复合表面官能团的高分散二氧化硅,满足不同工业生产需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 性能 二氧化硅 制备 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种高性能二氧化硅的制备方法,其特征在于包括以下步骤:步骤一:向合成釜内加入5~10体积的水玻璃溶液,常温下,开启搅拌,加入1体积的体积浓度为10%的酸,加酸速率为800~1500L/h;步骤二:将步骤一制得的浆料升温至60~100℃,恒温老化1~3小时后,洗涤;步骤三:在步骤二洗涤期间,将质量百分比为50%~65%的改性剂加入反应釜中,设定温度100~130℃,待用;步骤四:将步骤二洗涤好的物料送入离心干燥系统,干燥系统温度为300~400℃;同时,开启压力式雾化器,将步骤三中配好的改性剂,喷入干燥塔中,得高性能二氧化硅。
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