[发明专利]光学天线制备方法及光学芯片有效
| 申请号： | 201910403568.0 | 申请日： | 2019-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN110286441B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 陈明华;杨博 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G02B6/136 | 分类号： | G02B6/136;G02B6/12 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王庆龙;苗晓静 |
| 地址： | 100084 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种光学天线制备方法及光学芯片，属于光子技术领域。包括：在预设平台上进行单次刻蚀加工，得到光学天线；其中，光学天线包括波导区域及光栅结构，光栅结构位于波导区域的侧面。本发明实施例提供的方法，通过在预设平台上进行单次刻蚀加工，得到光学天线。本发明实施例提供的光学天线制备方法及光学芯片，可以提供与多次刻蚀相比拟的耦合效率。由于可以通过单次刻蚀加工，比多次刻蚀结构的制造工艺更为简单，能显著降低加工成本，从而应用范围更广，实用性较佳。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 天线 制备 方法 芯片 | ||
【主权项】：
1.一种光学天线制备方法，其特征在于，包括：在预设平台上进行单次刻蚀加工，得到光学天线；其中，所述光学天线包括波导区域及光栅结构，所述光栅结构位于所述波导区域的侧面。
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