[发明专利]感光性树脂组合物、感光性干膜和图案形成方法在审
申请号: | 201910405085.4 | 申请日: | 2019-05-16 |
公开(公告)号: | CN110501876A | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 丸山仁;加藤英人;菅生道博 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/075 | 分类号: | G03F7/075;C08G77/60;H05K3/28 |
代理公司: | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杜丽利<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明为感光性树脂组合物、感光性干膜和图案形成方法。将包含(A)含硅亚苯基和聚醚结构的聚合物和(B)光致产酸剂的感光性树脂组合物涂布至基底上以形成具有改进的对基底的粘合性、图案形成能力、耐开裂性和作为保护膜的可靠性的感光性树脂涂层。 | ||
搜索关键词: | 感光性树脂组合物 基底 感光性树脂涂层 图案形成能力 感光性干膜 光致产酸剂 聚醚结构 耐开裂性 图案形成 聚合物 保护膜 亚苯基 粘合性 改进 | ||
【主权项】:
1.感光性树脂组合物,其包含(A)包含具有下式(1)至(4)的重复单元的含硅亚苯基和聚醚结构的聚合物,和(B)光致产酸剂,/n /n其中,X1为具有下式(X1)的二价基团,X2为具有下式(X2)的二价基团,X3为具有下式(X3)的二价基团,X4为具有下式(X4)的二价基团,以及p、q、r和s为在以下范围内的数:0<p<1、0≤q<1、0≤r<1、0≤s<1、0<q+r+s<1和p+q+r+s=1,/n /n其中,R1和R2各自独立地为氢或C1-C8一价烃基,R3和R4各自独立地为氢或甲基,a1和a2各自独立地为1至6的整数,和n为0至100的整数,/n /n其中,Y1为单键、亚甲基、丙烷-2,2-二基、1,1,1,3,3,3-六氟丙烷-2,2-二基或芴-9,9-二基,R11和R12各自独立地为氢或甲基,R13和R14各自独立地为C1-C4烷基或烷氧基,b1和b2各自独立地为0至7的整数,以及c1和c2各自独立地为0至2的整数,/n /n其中,Y2为单键、亚甲基、丙烷-2,2-二基、1,1,1,3,3,3-六氟丙烷-2,2-二基或芴-9,9-二基,R21和R22各自独立地为氢或甲基,R23和R24各自独立地为C1-C4烷基或烷氧基,d1和d2各自独立地为0至7的整数,以及e1和e2各自独立地为0至2的整数,/n /n其中,R31和R32各自独立地为氢或甲基,以及f1和f2各自独立地为0至7的整数。/n
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