[发明专利]偏光基板及其制造方法在审
| 申请号： | 201910405801.9 | 申请日： | 2019-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN110082852A | 公开（公告）日： | 2019-08-02 |
| 发明（设计）人： | 王潍淇;陈志强;罗再昇;林圣凯;鍾佳欣;张晖谷;王铭瑞;黄胜铭;吕仁贵 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;王馨仪 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种偏光基板及其制造方法。偏光基板包括基板、多条偏光结构、多条阻挡结构以及钝化层。多条偏光结构位于基板上。各偏光结构包括栅线以及位于栅线上的覆盖结构。多条阻挡结构位于覆盖结构上，且不与栅线的侧壁接触。相邻的两个阻挡结构之间的间距小于相邻的两条栅线之间的间距。钝化层位于阻挡结构上。本发明具有高穿透率以及高消光比。 | ||
| 搜索关键词： | 阻挡结构 偏光基板 偏光结构 栅线 覆盖结构 钝化层 基板 侧壁接触 穿透率 消光比 条栅 制造 | ||
【主权项】：
1.一种偏光基板，其特征在于，包括：一基板；多条偏光结构，位于该基板上，各该偏光结构包括一栅线以及位于该栅线上的一覆盖结构；多条阻挡结构，位于所述覆盖结构上，且不与所述栅线的侧壁接触，其中相邻的两条阻挡结构之间的间距小于相邻的两条栅线之间的间距；以及一钝化层，位于所述阻挡结构上。
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