[发明专利]湿法刻蚀设备

摘要

本发明提供一种湿法刻蚀设备包括刻蚀腔、至少一遮蔽门和至少一喷淋管。所述刻蚀腔用于容纳并刻蚀基片，在其前端具有入口，在其后端具有出口；所述遮蔽门通过一转轴安装于所述入口或出口；所述喷淋管设置于所述转轴上，所述喷淋管与所述遮蔽门同时翻转，当所述遮蔽门关闭时，所述喷淋管位于所述基片行进通道的上方；所述喷淋管能够朝四周喷射液体，以清洗在所述入口或出口处形成的刻蚀液结晶。本发明通过喷淋管对刻蚀腔入口、刻蚀腔出口处进行喷淋，可有效去除在刻蚀腔入口、刻蚀腔出口处产生的大量刻蚀液结晶，提高设备稼动率，洁净度及产品质量。

主权项

1.一种湿法刻蚀设备，其特征在于，包括：刻蚀腔，用于容纳并刻蚀基片，在其前端具有入口，在其后端具有出口；至少一遮蔽门，为翻折类型的遮蔽门，通过一转轴安装于所述入口或出口，所述遮蔽门与所述基片行进的方向垂直，当所述基片通过时，所述遮蔽门能够打开，而当所述基片不需要通过时，所述遮蔽门能够关闭；至少一喷淋管，设置于所述转轴上，当所述遮蔽门打开时，所述喷淋管与所述遮蔽门一起转动并离开所述入口或所述出口，并且所述喷淋管位于所述基片行进通道的下方，当所述遮蔽门关闭时，所述喷淋管与所述遮蔽门共同复位，所述遮蔽门关闭所述入口或出口，并且所述喷淋管位于所述基片行进通道的上方；所述喷淋管能够朝四周喷射液体，以清洗在所述入口或出口处形成的刻蚀液结晶。