[发明专利]一种光刻机双工件台及其驱动方法在审
| 申请号： | 201910406439.7 | 申请日： | 2019-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN111948906A | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 王保亮;朱岳彬;廖飞红;陈超 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种光刻机双工件台及其驱动方法。该光刻机双工件台中，工件台单元包括第一承板台、第二承板台和基座结构；电磁导轨包括两个第一电磁导轨和至少一个第二电磁导轨；磁浮滑块包括两个第一磁浮滑块和至少两个第二磁浮滑块；控制单元用于根据磁浮间隙监测传感器的监测信号控制磁浮滑块相对电磁导轨悬浮，且调节磁浮滑块相对电磁导轨的磁浮间隙，还用于控制驱动电机驱动第一磁浮滑块和第二磁浮滑块分别在第一电磁导轨和第二电磁导轨上沿第一方向和第二方向移动。本发明实施例解决了现有气浮结构双工件台零件精度要求高，制造难度大的问题，并且可以实现对每一工件台进行单独的面形调节，有利于提高曝光基板的曝光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 双工 及其 驱动 方法 | ||
【主权项】：
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