[发明专利]一种磁流变抛光驻留时间的处理方法及装置

摘要

本发明公开了一种磁流变抛光驻留时间的处理方法及装置，该方法通过采用驻留点矩阵的方法，保持了在卷积计算时矩阵E、P的整体连续性，因此在计算卷积时，可以采用更高效的卷积计算方法；同时该方法从机床动态性能匹配的角度出发，实现了驻留时间计算过程中速度、加速度、速度匀滑性的有效控制，使得驻留时间计算方法具有面形收敛精度高、计算速度快与机床动态性能匹配等优点，适用于磁流变加工中驻留时间的求解，尤其是在大规模计算时相比于矩阵法具有较高的计算效率，是一种有效的驻留时间计算方法，可以提高磁流变加工的面形收敛精度，是值得推广的一种驻留时间计算方法。

主权项

1.一种磁流变抛光驻留时间的处理方法，其特征在于，包括：构建步骤：根据路径信息、原始面形输入矩阵P，构建驻留点矩阵DP；赋值步骤：对驻留时间矩阵T进行迭代计算，赋值操作：rms₁＝rms₀；更新步骤：更新驻留时间矩阵T，T_k+1＝T_k+α·E_k/vol；其中，T_k+1表示第k+1次迭代驻留时间矩阵的值，T_k表示第k次迭代驻留时间矩阵的值，E_k表示第k次迭代残差矩阵E的值；检查步骤：检查驻留时间矩阵T_k+1数据点最大速度、加速度、匀滑性的有效性；计算步骤：分别计算驻留时间矩阵T_k+1，残余误差矩阵E_k+1，残余误差矩阵E_k+1的RMS值及RMS值的变化率；第一确定步骤：确定第k+1次迭代残差面形的RMS的变化率grms₁是否小于第k次迭代误差面的RMS的变化率grms₀；当小于时，迭代次数增大1，k＝k+1；否则，调整步长调节因子系数ξ,间接改变力度度系数α＝ξα，执行所述赋值步骤；判断步骤：判断当前迭代次数是否达到最大迭代次数，且当前迭代误差是否小于最大允许误差；当满足时，对grms₀重新赋值grms₀＝grms₁，执行所述赋值步骤；否则，执行结束步骤；结束步骤：结束迭代过程，得到最终结果：驻留时间矩阵T_k+1，面形残余误差矩阵E_k+1。