[发明专利]一种等离子体处理装置及静电卡盘与静电卡盘的制造方法有效
| 申请号： | 201910411514.9 | 申请日： | 2019-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN110246745B | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 何琪娜;刘先兵 | 申请（专利权）人： | 苏州珂玛材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人： | 武玉琴;王月春 |
| 地址： | 215011 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置及静电卡盘与静电卡盘的制造方法。所述静电卡盘包括上部基体和下部基体；上部基体包括铝基体和陶瓷层，陶瓷层层叠在铝基体上表面；所述上部基体与所述下部基体层叠，固定连接为一体。等离子体处理装置，包括腔室，和在腔室内设置的静电卡盘。盘静电卡盘的制造方法包括如下步骤：形成上部基体；形成下部基体；将上部基体与所述下部基体层叠，固定连接为一体。本发明将静电卡盘分成上下两个部分，可在维修的时候，仅将上部基体进行维修。相比整个静电卡盘，上部基体只包括气道，不包括冷凝剂通道，因此维修过程要封堵的孔道减少，降低了维修难度和工作量，同时避免在打磨、重新等离子喷涂等工序对下部基体的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 装置 静电 卡盘 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种静电卡盘，其特征在于，包括上部基体和下部基体；所述上部基体包括铝基体和陶瓷层，所述陶瓷层固定在所述铝基体上表面；所述上部基体与所述下部基体层叠，固定连接为一体。
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