[发明专利]P型多晶硅双面太阳能电池的制作方法在审

专利信息
申请号: 201910414211.2 申请日: 2019-05-17
公开(公告)号: CN110311017A 公开(公告)日: 2019-10-08
发明(设计)人: 杨乾彭;张松;梁小静;陶智华 申请(专利权)人: 上海神舟新能源发展有限公司
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20;H01L31/0216;H01L31/0224
代理公司: 上海航天局专利中心 31107 代理人: 许丽
地址: 201112 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种P型多晶硅双面太阳能电池的制作方法,通过对多晶硅片进行前道工序处理,去除多晶硅片的表面损伤层及氧化层;在处理后的多晶硅片的表面利用湿化学法或者干法热氧化,形成一层钝化氧化层;在多晶硅片的背面沉积Al2O3层,形成场钝化效应;将多晶硅片进行退火;采用等离子体增强化学气相沉积法在多晶硅片的表面沉积氮化硅钝化减反射层;在多晶硅片的背面的氮化硅钝化减反射层的激光开槽处印刷金属Ag/Al栅线电极,在多晶硅片的正面印刷Ag电极,确保电极与硅片间形成良好的接触。本发明采用多层不同折射率的氮化硅叠层钝化前后表面,提升钝化效果以及减少正背面的光的反射,极大的提高了多晶太阳电池的电性能参数。
搜索关键词: 多晶硅片 双面太阳能电池 氮化硅钝化 减反射层 电极 等离子体增强化学气相沉积法 退火 表面损伤层 电性能参数 钝化氧化层 表面沉积 钝化效果 工序处理 激光开槽 湿化学法 栅线电极 正面印刷 场钝化 氮化硅 热氧化 氧化层 折射率 硅片 叠层 钝化 多层 多晶 干法 去除 沉积 反射 制作 背面 金属 印刷
【主权项】:
1.一种P型多晶硅双面太阳能电池的制作方法,其特征在于,包括:对多晶硅片进行前道工序处理,去除多晶硅片的表面损伤层及氧化层;在处理后的多晶硅片的表面利用湿化学法或者干法热氧化,形成一层钝化氧化层;利用原子层沉积法或等离子体增强化学气相沉积法在多晶硅片的背面沉积Al2O3层,形成场钝化效应;将多晶硅片进行退火;采用等离子体增强化学气相沉积法在多晶硅片的表面沉积氮化硅钝化减反射层;在多晶硅片的背面的氮化硅钝化减反射层的激光开槽处印刷金属Ag/Al栅线电极,在多晶硅片的正面印刷Ag电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海神舟新能源发展有限公司,未经上海神舟新能源发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910414211.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top