[发明专利]一种压力控制装置和化学机械抛光装置在审

专利信息
申请号: 201910414517.8 申请日: 2019-05-18
公开(公告)号: CN110977750A 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 许振杰;王春龙;赵德文 申请(专利权)人: 清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
主分类号: B24B37/005 分类号: B24B37/005;B24B37/30;B24B37/34;B24B53/017;B24B49/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及化学机械抛光技术领域,公开了一种压力控制装置和化学机械抛光装置。压力控制装置包括压力控制模块和第一压力传感器,压力控制模块中集成有正压控制单元和负压控制单元;正压控制单元的输入端连接正压供给源,负压控制单元的输入端连接负压供给源,正压控制单元的输出端与负压控制单元的输出端共同连接终端元件;第一压力传感器连接在终端元件的气路端口处;正压控制单元、负压控制单元和第一压力传感器分别与控制器连接;控制器获取第一压力传感器采集的终端元件的端口压力,并控制正压控制单元和/或负压控制单元的开关,以使端口压力稳定在预设目标压力。化学机械抛光装置包括与承载头内的压力腔室气路连接的压力控制装置。
搜索关键词: 一种 压力 控制 装置 化学 机械抛光
【主权项】:
暂无信息
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