[发明专利]一种硅基马赫-曾德尔型电光调制器的工艺偏差分析方法有效
申请号: | 201910418266.0 | 申请日: | 2019-05-20 |
公开(公告)号: | CN109975999B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 江伟;赵沛炎;曾昭邦 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;G02F1/03;G02F1/225 |
代理公司: | 江苏法德东恒律师事务所 32305 | 代理人: | 李媛媛 |
地址: | 210046 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明公开了一种硅基马赫‑曾德尔型电光调制器的工艺偏差分析方法。该方法包括以下步骤:(1)借助输入反射系数S |
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搜索关键词: | 一种 马赫 曾德尔型 电光 调制器 工艺 偏差 分析 方法 | ||
【主权项】:
1.一种硅基马赫‑曾德尔型电光调制器的工艺偏差分析方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)在硅基马赫‑曾德尔型电光调制器中,在行波电极结构上加载驱动信号,测量行波电极的输入反射系数S11;在一定频谱范围内计算系数S11的算术平均数和加权平均数来量化驱动信号在行波电极上的反射特性;(2)测量所述硅基马赫‑曾德尔型电光调制器的调制信号特性并进行量化,调制信号特性包括传输特性、垂直方向特性和水平方向特性;(3)引入皮尔逊相关系数,通过分析皮尔逊相关系数的数值和变化趋势,分析驱动信号反射偏差和调制信号特性偏差之间的关系;(4)引入偏相关系数,通过分析偏相关系数的数值和变化趋势,进一步分析驱动信号反射偏差和调制信号特性偏差之间的关系。
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