[发明专利]评估方法、曝光方法和用于制造物品的方法有效
| 申请号： | 201910420978.6 | 申请日： | 2019-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN110531587B | 公开（公告）日： | 2022-09-27 |
| 发明（设计）人： | 竹下文佑;住吉雄平;坂本宪稔 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘前红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及评估方法、曝光方法和用于制造物品的方法。提供了一种用于评估曝光装置中的投影光学系统的像差的评估方法。获得用于相对于投影光学系统的光轴对称的像差的第一预测公式的第一预测系数，并且获得用于相对于投影光学系统的光轴不对称的像差的第二预测公式的第二预测系数。在照明区域的形状被确定为相对于光轴对称的情况下，使用第一预测系数来评估投影光学系统的像差，并且在照明区域的形状相对于光轴不对称的情况下，使用第一预测系数和第二预测系数来评估投影光学系统的像差。 | ||
| 搜索关键词： | 评估 方法 曝光 用于 制造 物品 | ||
【主权项】：
1.一种用于评估曝光装置中的投影光学系统的像差的评估方法，所述方法包括：/n获得第一预测系数，第一预测系数是第一预测公式的预测系数，第一预测公式是用于相对于投影光学系统的光轴对称的像差的预测公式，并且获得第二预测系数，第二预测系数是第二预测公式的预测系数，第二预测公式是用于相对于投影光学系统的光轴不对称的像差的预测公式；/n确定投影光学系统的物面中的照明区域的形状相对于光轴对称还是不对称；以及/n使用第一预测系数和第二预测系数中的至少一项来评估投影光学系统的像差，其中，该评估步骤包括：/n在确定步骤确定照明区域的形状相对于光轴对称的情况下，使用第一预测系数来评估投影光学系统的像差；以及/n在确定步骤确定照明区域的形状相对于光轴不对称的情况下使用第一预测系数和第二预测系数来评估投影光学系统的像差。/n
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