[发明专利]基于等几何配点法的浅浮雕模型快速建模方法有效

专利信息
申请号: 201910421964.6 申请日: 2019-05-21
公开(公告)号: CN110176074B 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 许金兰;凌成南;徐岗 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学上虞科学与工程研究院有限公司;杭州电子科技大学
主分类号: G06T17/30 分类号: G06T17/30;G06T7/11
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 黄前泽
地址: 312300 浙江省绍兴市上虞区曹娥*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了基于等几何配点法的浅浮雕模型快速建模方法。若能将等几何配点法应用在浅浮雕模型的建模上,必能提高浅浮雕模型的建模效率。本发明步骤如下:对图像进行参数化处理得到样条形式的参数化结果;采用Greville坐标对参数化结果进行配点,所有配点的集合记为配点集合;等几何配点法求解带有狄利克雷边界条件的泊松方程得到基曲面模型;定义特征点集合和特征点约束值;采用等几何配点法求解加入了特征点约束值的带有狄利克雷边界条件的泊松方程,得到浅浮雕模型。本发明采用了基于配点法的等几何分析,选取的点远远少于伽辽金方法,因此在计算速度上远远优于伽辽金法。
搜索关键词: 基于 几何 配点法 浅浮雕 模型 快速 建模 方法
【主权项】:
1.基于等几何配点法的浅浮雕模型快速建模方法,其特征在于:该方法具体步骤如下:步骤1、对输入图像进行二值化处理,将二值化处理后的图像中灰度值为255的区域记为浮雕区域;或者用户手绘黑白手绘图;步骤2、对经步骤1处理后的图像进行参数化处理得到样条形式的参数化结果,样条的控制点构成的集合记为控制点集合;步骤3、采用Greville坐标对步骤2得到的参数化结果进行配点,所有配点的集合记为配点集合;步骤4、等几何配点法求解带有狄利克雷边界条件的泊松方程得到基曲面模型;步骤5、若步骤1中采用二值化处理后的输入图像,则将控制点集合中属于浮雕区域内的控制点归入特征点集合;若步骤1中采用黑白手绘图,则将黑白手绘图中浮雕线条的各点沿浮雕线条两侧外法向平移距离L得到两条平移线条,若控制点集合中的控制点位于两条平移线条之间位置,则归入特征点集合,其中,L预先设定阈值,阈值不超过5PX;然后定义特征点约束值g(x,y)=S(x,y)+h*nz,特征点约束值即为特征点集合中的点(x,y)对应到浅浮雕模型上时的z轴坐标,S(x,y)为点(x,y)对应到基曲面模型上时的z坐标,h是浅浮雕模型中浮雕区域抬升的高度,nz是特征点集合中的点对应到基曲面模型处点的单位法向量的z轴分量;步骤6、采用等几何配点法求解加入了特征点约束值的带有狄利克雷边界条件的泊松方程,得到浅浮雕模型。
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