[发明专利]一种高效氧析出薄膜电极及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201910422985.X | 申请日： | 2019-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN110144599A | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 陈燕;朱云敏;李菲;刘茜;朱惠钦;陈惠君;刘美林 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C25B11/06 | 分类号： | C25B11/06;C25B1/04;C23C14/58;C23C14/34;C23C14/28;C23C14/18;C23C14/08;H01M4/86;H01M4/88 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 罗啸秋 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于电极材料领域，公开了一种高效氧析出薄膜电极及其制备方法和应用。所述制备方法为：在单晶氧化钇稳定的氧化锆衬底上通过离子溅射制备金集流体，然后在所得金集流体表面通过脉冲激光沉积的方法制备PrBa0.5Sr0.5Co1.5Fe0.5O5+α催化活性材料层，将所得催化活性材料层进行等离子体表面处理，得到所述高效氧析出薄膜电极。本发明通过氩气或氢气等离子体处理能高效的降低催化剂的氧析出的过电势，提高氧析出催化剂的利用率且能较大程度降低电解水的能耗。 | ||
| 搜索关键词： | 氧析出 薄膜电极 制备 制备方法和应用 催化活性材料 催化剂 等离子体表面处理 脉冲激光沉积 氢气等离子体 单晶氧化钇 集流体表面 氩气 电极材料 离子溅射 电解水 过电势 集流体 氧化锆 衬底 能耗 | ||
【主权项】：
1.一种高效氧析出薄膜电极的制备方法，其特征在于包括如下制备步骤：(1)在单晶氧化钇稳定的氧化锆衬底上通过离子溅射制备金集流体；(2)在步骤(1)所得金集流体表面通过脉冲激光沉积的方法制备PrBa0.5Sr0.5Co1.5Fe0.5O5+α催化活性材料层；(3)将步骤(2)所得PrBa0.5Sr0.5Co1.5Fe0.5O5+α催化活性材料层进行等离子体表面处理，得到所述高效氧析出薄膜电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学，未经华南理工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910422985.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
