[发明专利]金属结构、器件和方法在审

专利信息
申请号: 201910423104.6 申请日: 2019-05-21
公开(公告)号: CN110634836A 公开(公告)日: 2019-12-31
发明(设计)人: D.J.齐拉思;M.麦克斯温尼;J.法默;A.S.乔杜里 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L23/532 分类号: H01L23/532;H01L21/768
代理公司: 72001 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 孙鹏;申屠伟进
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本文提供金属结构,所述金属结构可以包括钴合金、镍合金或镍,以及有关的设备和方法。所述金属结构可以通过化学气相沉积(CVD)来被形成,并且可以包括在CVD过程期间所使用的前体材料的痕量。
搜索关键词: 金属结构 化学气相沉积 前体材料 镍合金 钴合金 痕量
【主权项】:
1.一种金属结构,包括:/nA或B;以及/n碳、氮、氧、磷、卤素或氢中的一个或多个;/n其中A包括:/nb重量百分比的Co;/nq重量百分比的Q;以及/nz重量百分比的Z;/n其中b、q和z的总和等于100%;b在50%和99.99%之间,q在0.01%和50%之间;z在0%和49.9%之间;当z为0%时,Q选自Ni、Al、Mn、Si、Cr、V、Mo、Nb、Ta、W或Zr;当z不是0%时,Q选自Ni、Al、Mn、Si、Cr、V、Nb或Ta;并且Z选自Mo或W;/n其中B包括:/nd重量百分比的Ni;/ne重量百分比的X;以及/nf重量百分比的G;/n其中d、e和f的总和等于100%;d在50%和100%之间,e在0%和50%之间,f在0%和49.99%之间;当f为0%的时候,X选自 Co、Al、Mn、Si、Cr、V、Mo、Nb、Ta或W;当f不是0%的时候,X选自Co、Al、Mn、Si、Cr、V、Nb或Ta;并且G选自Mo或W。/n
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