[发明专利]用于制作光栅的全息曝光系统及方法有效
申请号: | 201910424435.1 | 申请日: | 2019-05-21 |
公开(公告)号: | CN110007385B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 吴冠豪;黎武南;曾理江 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本公开是关于一种用于制作光栅的全息曝光系统及方法,该系统包括改变光束偏振方向的第一波片和第二波片;偏振分光镜,将光源的光束分为第一光束和第二光束,并分别传至第一针孔滤波器和反射镜;第二波片,使第二光束与第一光束的偏振方向一致;反射镜,将第二光束反射至第二针孔滤波器;第一针孔滤波器和第二针孔滤波器分别对第一光束和第二光束进行滤波扩束,然后将第一光束和第二光束同时发送至准直镜的一侧;准直镜,位于两个针孔滤波器的中心光轴的会聚处,将第一光束和第二光束准直并发送至其另一侧形成干涉区,使其中的基板表面形成光栅图案;基板支架,用于安装基板并调节其位置。根据本公开实施例的系统可以制备高质量的大周期光栅。 | ||
搜索关键词: | 用于 制作 光栅 全息 曝光 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于制作光栅的全息曝光系统,其特征在于,包括第一波片、偏振分光镜、第一针孔滤波器、第二波片、反射镜、第二针孔滤波器、准直镜以及基板支架,所述第一波片用于改变光源发出光束的偏振方向;所述偏振分光镜用于将光源发出的光束分为第一光束和第二光束,并将所述第一光束传至所述第一针孔滤波器,将所述第二光束传至所述反射镜;所述第二波片用于更改所述第二光束的偏振方向并使其与所述第一光束的偏振方向一致;所述反射镜用于将所述第二光束反射至所述第二针孔滤波器;所述第一针孔滤波器用于对所述第一光束进行滤波扩束,所述第二针孔滤波器用于对所述第二光束进行滤波扩束,所述第一针孔滤波器和所述第二针孔滤波器将滤波扩束后的所述第一光束和所述第二光束同时发送至准直镜的一侧;所述准直镜位于所述第一针孔滤波器的中心光轴与所述第二针孔滤波器的中心光轴的交汇处;所述准直镜将所述第一光束和第二光束准直,并发送至准直镜的另一侧以形成干涉区,以便在位于所述干涉区中的基板表面形成光栅图案;所述基板支架用于安装基板并对所述基板的位置进行调节。
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