[发明专利]一种连续提供前驱体源的方法及装置在审
申请号: | 201910427779.8 | 申请日: | 2019-05-22 |
公开(公告)号: | CN110042367A | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 李哲峰;辛灵玲;陈文翰 | 申请(专利权)人: | 深圳市原速光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种用于连续提供前驱体源装置,包括:一与反应腔连接的第一源瓶,第一源瓶至少一个;与第一源瓶连接的第二源瓶,第二源瓶至少一个;第一源瓶中盛装有前驱体源,第二源瓶中盛装的前驱体源用于提供给第一源瓶,以使第一源瓶连续地往反应腔内输送前驱体源。本发明还提供一种用于连续提供前驱体源的方法。本发明提供的装置结构简单,便于维护和使用;前驱体源可以连续不断地进到反应腔,应用该装置的ALD、CVD等气相沉积设备可以实现连续生产,产能高,满足气相设备大规模工业化连续生产的要求。 | ||
搜索关键词: | 源瓶 前驱体源 连续提供 反应腔 盛装 工业化连续生产 气相沉积设备 连续不断 气相设备 装置结构 产能 应用 维护 | ||
【主权项】:
1.一种用于连续提供前驱体源的装置,其特征在于,包括:一与反应腔连接的第一源瓶,所述第一源瓶至少一个;与所述第一源瓶连接的第二源瓶,所述第二源瓶至少一个;所述第一源瓶中盛装有前驱体源,所述第二源瓶中盛装的前驱体源用于提供给所述第一源瓶,以使所述第一源瓶连续地往所述反应腔内输送前驱体源。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的