[发明专利]光致抗蚀剂剥离组合物和方法有效
| 申请号： | 201910428447.1 | 申请日： | 2019-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN110515281B | 公开（公告）日： | 2023-08-15 |
| 发明（设计）人： | R·D·佩特斯;M·费尼斯;T·亚克拉 | 申请（专利权）人： | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;徐志明 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种有机光致抗蚀剂剥离组合物和将所述组合物用于在晶片上具有绝缘层和金属化的硅晶片的方法，所述组合物具有芳基磺酸或烷基芳基磺酸或其混合物，1,3‑二羟基苯(间苯二酚)或山梨糖醇或其混合物；闪点大于约65℃的一种或多种烃溶剂，和任选地基于所述组合物的总重量小于约0.5重量％的水。所述组合物还可用于从其他衬底上除去其他材料。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 剥离 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于从衬底上去除有机光致抗蚀剂和/或其他材料的组合物，所述组合物包含：/n芳基磺酸或烷基芳基磺酸或其混合物；/n1,3-二羟基苯(间苯二酚)或山梨糖醇或其混合物；和/n闪点大于约65℃的一种或多种烃溶剂。/n
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