[发明专利]微光刻投射曝光装置中的组件有效
| 申请号： | 201910428675.9 | 申请日： | 2019-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN110515275B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | J.威斯林;M.埃拉思;A.霍利;S.特罗格;A.沃格勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/00;G02B7/182;F16C32/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明关于在微光刻投射曝光装置中的组件，其具有光学元件(100、200)、至少一个重量补偿装置以及具有多个线圈(151a、151b、151c、152a、152b、152c、251a、251b、251c、252a、252b、252c)的线圈配置，其中至少一个重量补偿装置包含至少一个磁路，由此磁路所产生的磁场引起力，用于至少部分地补偿作用在光学元件上的重量的力，以及其中线圈配置可由电流来赋能以产生作用于光学元件上的补偿力，此补偿力至少部分地补偿当光学元件移动时由磁路所施加的寄生力且对作用在光学元件上的重量的力的补偿无贡献。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 装置 中的 组件 | ||
【主权项】：
1.一种在微光刻投射曝光装置中的组件，具有：/n·光学元件(100、200)；/n·至少一个重量补偿装置，其包含至少一个磁路，由该磁路所产生的磁场引起力，用于至少部分地补偿作用在该光学元件(100、200)上的重量的力；以及/n·具有多个线圈(151a、151b、151c、152a、152b、152c、251a、251b、251c、252a、252b、252c)的线圈配置，该线圈配置能够由电流来赋能以产生作用于该光学元件(100、200)上的补偿力，该补偿力至少部分地补偿当该光学元件(100、200)移动时由该磁路所施加的寄生力，但对作用在该光学元件(100、200)上的该重量的力的补偿没有贡献。/n
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