[发明专利]一种基于同轴干涉的波面测量系统和方法在审
申请号: | 201910430146.2 | 申请日: | 2019-05-22 |
公开(公告)号: | CN110132169A | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 贾伟;周常河;王津;项长铖;谢永芳;薄启宇 | 申请(专利权)人: | 暨南大学 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 黄磊 |
地址: | 510632 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量系统,包括:马赫曾德双光束干涉光路、同轴干涉记录单元、二维移动平台、激光干涉仪单元及数据处理单元;待测光学元件设置在所述马赫曾德双光束干涉光路中,所述马赫曾德双光束干涉光路用于产生两束马赫曾德干涉光路,一路作为参考光,另一路作为测量光,其中测量光经过待测光学元件,所述同轴干涉记录单元设置在二维移动平台上,用于将两束马赫曾德干涉光路合路成同轴干涉信号,并记录同轴干涉信号的光强信息,本发明测量波面的尺寸和精度不再受限于分束镜的大小和表面质量,因此在大尺寸波面以及大尺寸光学元件面形测量中具有很好的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 同轴 双光束干涉 光路 马赫曾德干涉光路 二维移动平台 干涉 波面测量 干涉信号 光学元件 记录单元 测量光 大尺寸光学元件 数据处理单元 激光干涉仪 光强信息 面形测量 参考光 测量波 分束镜 波面 合路 受限 记录 应用 | ||
【主权项】:
1.一种基于同轴干涉的波面测量系统,其特征在于,包括:马赫曾德双光束干涉光路、同轴干涉记录单元、二维移动平台、激光干涉仪单元及数据处理单元;待测光学元件设置在所述马赫曾德双光束干涉光路中,所述马赫曾德双光束干涉光路用于产生两束马赫曾德干涉光路,一路作为参考光,另一路作为测量光,其中测量光经过待测光学元件,所述同轴干涉记录单元设置在二维移动平台上,用于将两束马赫曾德干涉光路合路成同轴干涉信号,并记录同轴干涉信号的光强信息,并将光强信息发送至数据处理单元;激光干涉仪单元用于测量二维移动平台的位移,并将测得位移数据发送至数据处理单元,二维移动平台和数据处理单元连接,数据处理单元根据光强信息、位移数据和二维移动平台的运动数据计算待测波面的分布。
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