[发明专利]化学气相沉积腔室

摘要

本发明涉及一种化学气相沉积腔室。本发明的化学气相沉积腔室包括：腔室，设于腔室内上部的扩散板，设于腔室内下部的加热板，以及与腔室连通以向腔室输送工艺气体的气体源；所述扩散板由多个呈阵列均匀分布的子扩散板组成，所述加热板由对应的多个呈阵列均匀分布的子加热板组成，所述腔室设有对应的多个气体及射频输送位置以在腔室内对应的位置输送工艺气体及射频，所述气体及射频输送位置的中心与对应的子扩散板和子加热板的中心对应。本发明的化学气相沉积腔室使成膜均一性更优，提高工艺可控性及稳定性；化学气相沉积的关键部件更换以及检修更加方便；化学气相沉积的关键部件部分损坏后可进行更换，无需整体报废，降低运营成本。

主权项

1.一种化学气相沉积腔室，其特征在于，包括：腔室，设于腔室内上部的扩散板，设于腔室内下部的加热板，以及与腔室连通以向腔室输送工艺气体的气体源；所述扩散板由多个呈阵列均匀分布的子扩散板组成，所述加热板由对应的多个呈阵列均匀分布的子加热板组成，所述腔室设有对应的多个气体及射频输送位置以在腔室内对应的位置输送工艺气体及射频，所述气体及射频输送位置的中心与对应的子扩散板和子加热板的中心对应。